בחדר הדפוס, עבודה מניבה רווח רק אם הדיו מתייבש מהר מספיק כדי שהתהליך ימשיך להתנהל, ובאופן עקבי מספיק כדי שהמוצר יעמוד בדרישות הבדיקה. אם הגופי התאורה אינם חזקים מספיק, זמן הייבוש נארך, יוצר הרבה חום בחומר, וכתוצאה מכך השטח אינו מתייבש באופן אחיד. פיתחנו את מערכות הגופי התאורה שלנו כך שיאפשרו ייבוש מהיר של הדיו, ובכך להפוך את תהליך הייבוש לפרוצדורה יעילה.
מה חשוב מבחינה טכנית? אנו מתחילים עם פליטת אדי כספית בלחץ גבוה, מכיוון שהספקטרום שלהם כולל את קבוצות הספיגה של החומרים המשמשים להתחלת תהליך הייבוש. קווי הפליטה העיקריים באורכי גל של 365 ננומטר, 385 ננומטר ו-405 ננומטר מספקים את צפיפות הפוטונים הדרושה לייבוש מהיר. אנו מפחיתים את הפליטה באורך גל 254 ננומטר באמצעות רפלקטור דיכרואי – כך יש פחות אוזון על השטח, ופחות סיכון לפגיעה בחומרים רגישים. עוצמת הקרינה מותאמת כך שתעמוד בדרישות הנדרשות, כך שניתן להשיג את צפיפות האנרגיה הנדרשת בכל חלק של החומר. רפלקטור אליפטי בעל רמת החזרה גבוהה מרכז את הקרינה במקום הנכון, משפר את החיבור בין הגופי התאורה לחומר, ומפחית את הקרינה המבוזבזת. אנו לא מנחשים את עוצמת הקרינה – אנו מודדים אותה באמצעות מד קרינה ספקטרלי.
למה זה עובד בעולם האמיתי? בדפוס UV, פלקסו וסקרין, מהירות הייבוש ועומק הייבוש הם הגורמים שקובעים את הקצב והאיכות של הייצור. ספקטרום קרינה יציב ועוצמת קרינה מושלמת מאפשרים לקצר את זמן הייבוש, למנוע חום על חומרים דקים, ולקבל שטח מיובש באופן אחיד – בלי לבזבז זמן על תקלות בתהליך הייבוש. התוצאה היא פחות פריטים פגומים, דבקות טובה יותר של הדיו, ומוצרים איכותיים שניתן לסמוך עליהם.
הפרטים הפרקטיים שאי אפשר להתעלם מהם גופי התאורה בלחץ גבוה דורשים התאמה מדויקת בין החשמל לבין הגופי עצמו, ועוצמת הקרינה יורדת עם הזמן. יש לתחזק את הרפלקטורים ולהחליף את הגופי התאורה בזמן הנכון, כדי שעוצמת הקרינה תישאר ברמה הנדרשת. כמו כן, יש לוודא שהגופי התאורה מתאימים למודל המדפסת ולאינטרפייס שלו – אי-התאמות עלולות לפגוע בביצועי הגופי התאורה.