<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Katoda on UV Lamp Pro</title>
		<link>http://uv-lamp-pro.com/id/tags/katoda/</link>
		<description>Recent content in Katoda on UV Lamp Pro</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 01 Jun 2026 05:03:43 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-pro.com/id/tags/katoda/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu germisida UV katoda panas</title>
				<link>http://uv-lamp-pro.com/id/posts/hot-cathode-uv-germicidal-lamp/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 05:03:43 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-pro.com/id/posts/hot-cathode-uv-germicidal-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-pro.com/images/1dd7856afed9d1a9a2f49fb2a00ef960.png&#34; alt=&#34;Lampu germisida UV katoda panas&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Pada jalur pemotongan wafer, hambatan utama sering kali terletak pada tahap pelepasan perekat, bukan pada gergaji itu sendiri. Film UV yang menahan frame die di tempatnya harus dapat dilepas dengan cepat, bersih, dan tanpa memberikan kejutan termal pada die. Jika sumber UV tidak mampu memberikan dosis yang stabil dan dapat diulang pada panjang gelombang yang tepat, maka akan terjadi residu perekat, tarikan tepi, atau lebih buruk lagi—retakan mikro yang merusak die bernilai tinggi.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Lampu germisidal UV katoda panas yang dirancang untuk penggunaan industri memberikan solusi praktis untuk pelepasan perekat UV dengan throughput tinggi—selama proses dibangun berdasarkan kontrol spektral dan pengulangan dosis, bukan hanya intensitas kasar.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
