http://uv-lamp-pro.com/ms/tags/tinta/ Recent content in Tinta on UV Lamp Pro Hugo ms Mon, 29 Jun 2026 23:23:44 +0800 http://uv-lamp-pro.com/ms/posts/mercury-lamp-for-uv-ink-drying/ Mon, 29 Jun 2026 23:23:44 +0800 http://uv-lamp-pro.com/ms/posts/mercury-lamp-for-uv-ink-drying/ <p><img src="http://uv-lamp-pro.com/images/202304ad6af0f8b478173f2775b1fe8a.png" alt="Lampu merkuri untuk mengeringkan dakwat UV"></p> <p>Di bilik pencetakan, sesuatu proses pengeringan hanya dapat berjalan dengan lancar sekiranya dakwat kering dengan cepat agar proses pencetakan dapat diteruskan secara konsisten, dan hasilnya memenuhi standard yang ditetapkan. Jika kuasa lampu tidak mencukupi, masa yang diperlukan untuk pengeringan akan bertambah, haba yang dihasilkan juga akan meningkat, dan akibatnya permukaan bahan yang dicetak akan menjadi tidak rata. Kami telah mereka sistem lampu merkuri khusus untuk pengeringan dakwat UV, agar hasilnya tetap konsisten. Dengan cara ini, masalah pengeringan dakwat tidak lagi menjadi halangan.</p> http://uv-lamp-pro.com/ms/posts/uv-ink-curing-lamp/ Sat, 06 Jun 2026 07:26:09 +0800 http://uv-lamp-pro.com/ms/posts/uv-ink-curing-lamp/ <p><img src="http://uv-lamp-pro.com/images/09923ce49e22d0dee2d50917b93c7524.png" alt="Lampu penyembuhan dakwat UV"></p> <p>Di lantai tekan, sesuatu pekerjaan sama ada berjalan dengan baik atau berakhir di dalam tong sisa—dan banyak itu bergantung kepada satu nombor: kepekatan tenaga spektral. Kami menetapkan lampu penyembuhan UV kami untuk mengekalkan jalur output utama dalam toleransi 0.5% atas sebab tertentu. Dalam kerja offset berkelajuan tinggi, flexo, dan skrin, sedikit pergeseran dalam puncak irradiance 365nm boleh menyebabkan dakwat tidak tersembuh. Atau ia boleh membakar substrat. Tiada hasil seperti itu yang boleh diterima.</p> <p><strong>Apa yang sebenarnya penting di bawah permukaan</strong><br> Kami memulakan dengan lampu wap merkuri bertekanan tinggi, disesuaikan untuk output stabil di seluruh spektrum UVA. Fokus adalah kawalan ketat pada 365nm, dengan garis sekunder yang kukuh di 313nm dan 395nm. Reflektor menggunakan salutan dikroik untuk membentuk output spektral dan mengarahkan lebih banyak foton ke dalam tingkap fotoinisiator. Di lapisan fokus, puncak irradiance melebihi 12 W/cm².<br> Sistem ini direka untuk memberikan ketumpatan tenaga yang konsisten—biasanya 800–1200 mJ/cm² pada substrat—agar pemautan silang selesai pada kelajuan tekan tanpa mendedahkan lembaran secara berlebihan. Operasi tanpa ozon mengekalkan kawasan bersih, dan kestabilan lengkung yang boleh diulang mengekalkan variasi lampu ke lampu di bawah 2%.</p>