<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Ультрафиолетовый Свет on UV Lamp Pro</title>
		<link>http://uv-lamp-pro.com/ru/tags/%D1%83%D0%BB%D1%8C%D1%82%D1%80%D0%B0%D1%84%D0%B8%D0%BE%D0%BB%D0%B5%D1%82%D0%BE%D0%B2%D1%8B%D0%B9-%D1%81%D0%B2%D0%B5%D1%82/</link>
		<description>Recent content in Ультрафиолетовый Свет on UV Lamp Pro</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ru</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 06 Jun 2026 07:26:09 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://uv-lamp-pro.com/ru/tags/%D1%83%D0%BB%D1%8C%D1%82%D1%80%D0%B0%D1%84%D0%B8%D0%BE%D0%BB%D0%B5%D1%82%D0%BE%D0%B2%D1%8B%D0%B9-%D1%81%D0%B2%D0%B5%D1%82/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>УФ лампа для сушки/отверждения чернил</title>
				<link>http://uv-lamp-pro.com/ru/posts/uv-ink-curing-lamp/</link>
				<pubDate>Sat, 06 Jun 2026 07:26:09 +0800</pubDate>
				<guid>http://uv-lamp-pro.com/ru/posts/uv-ink-curing-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://uv-lamp-pro.com/images/09923ce49e22d0dee2d50917b93c7524.png&#34; alt=&#34;УФ лампа для сушки/отверждения чернил&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;На печатном участке задание либо выполняется безупречно, либо оказывается на свалке — и многое зависит от одного показателя: концентрации спектральной энергии. Мы устанавливаем нашу УФ-отверждающую лампу так, чтобы основной выходной диапазон удерживался в пределах допуска 0,5 % не случайно. При высокой скорости офсетной, флексографической и трафаретной печати небольшой сдвиг пикового излучения на 365 нм может привести к недоотверждению краски. Или к тому, что подложка перегреется. Ни один из этих результатов неприемлем.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Что действительно важно &amp;ldquo;под капотом&amp;rdquo;&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;В основе лежит ртутная лампа высокого давления, настроенная на стабильный выход по спектру UVA. Основное внимание уделено точному контролю на 365 нм, с устойчивыми вторичными линиями на 313 нм и 395 нм. Рефлектор покрыт дихроическим слоем для формирования спектрального выхода и направления большего количества фотонов в окно фотоинициатора. В фокальной плоскости пиковая освещенность превышает 12 W/cm².&lt;br&gt;&#xA;Система сконструирована для обеспечения стабильной плотности энергии — обычно 800–1200 mJ/cm² на подложке — так, чтобы процесс сшивки завершался на скорости печати без переэкспонирования листа. Безозоновая работа поддерживает чистоту рабочего пространства, а повторяемая стабильность дуги удерживает колебания выходной мощности лампы в пределах 2 %.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
